佳能光刻機是多少納米？

佳能光刻機22 nm，光刻機是制造MEMS、光電子、二極管LSI的關鍵設備。掩膜版光刻機分為兩種:接觸式光刻機，具有相同的模板和圖形尺寸，曝光時模板靠近芯片；第二種是分檔器，類似於投影儀原理，獲得比模板更小的曝光圖案。

目前，掩模版主要由上海微電子設備有限公司、國電、中子科技集團公司第四十五研究所、合肥新碩半導體有限公司、先騰光電科技和無錫蘇櫻半導體科技制造。其中上海微電子設備有限公司已量產90 nm，這是國內最先進的技術。其國家科技重大專項“超大規模集成電路制造裝備及成套工藝項目”在65nm光刻機中研發，目前正在進行整機評估。對於光刻機技術，90 nm是壹個技術臺階；45 nm是技術臺階；22納米是壹個技術步驟...技術從90 nm升級到65 nm不難，但是45 nm比65 nm難多了。路還得壹步壹步走，國家16重大項目02提出光刻機2020年生產22納米。目前主流是45nm，而32nm和28nm都需要在深紫外光刻機上改進升級。