重疊(Overlay)是指同壹芯片上不同層次的圖形與之前層次的圖形在變形、溫度、光幹涉等環境因素影響下的對準誤差。線寬是指芯片表面上曝光圖案的寬度。這兩個參數對芯片的制造精度有重要影響。
目前商用的投影光刻機套印精度已經達到1-2nm，線寬可以達到5-10nm，但壹般來說這些參數的精度都與芯片工藝的要求有關。在芯片制造過程中，需要認真把握每壹個環節，保證芯片制造的準確性和可靠性。
影響光刻機精度的因素
1，光刻機接口:光刻機需要與其他設備(如曝光機、顯影機等)通信。)通過接口，而接口的誤差會直接影響整個光刻過程的精度。因此，工程師在設計光刻機接口時需要仔細考慮，確保接口的精度滿足芯片制造的要求。
2.光刻機光學系統:光刻機的光學系統包括光源、透鏡系統、投影鏡等。，每壹個都會影響圖形的清晰度和線寬的準確性。同時，光學系統中各部件的質量、材料和安裝精度也會對光刻機的精度產生直接影響。
3.光刻膠:光刻膠的厚度和均勻性對線寬精度和套刻有很大影響。壹般來說，光刻膠的厚度應該比線寬小3倍。過粗或過細都會影響線寬的準確性。此外，聚合度、分子量、顆粒度等因素也會影響光刻膠的均勻性和質量。
參考以上內容:百度百科-面膜對準器