1，技術突破:光刻機曝光技術的不斷突破，使得光刻機曝光技術達到了納米級的分辨率，大大提高了芯片的制造精度。
2.高效生產:光刻機是壹種高精度的設備，其制造過程需要很高的精度和穩定性。通過引入自動化生產線，可以實現光刻機的高效生產，提高生產效率和質量。比如光刻機生產線中的自動對準系統，可以自動調整光刻膠的位置，大大提高了生產效率和精度。
3.芯片制造工藝優化:芯片制造工藝不斷優化。通過改進光刻機的制造工藝和參數設置，可以提高生產效率和質量。例如，通過優化光刻膠配方和曝光參數，可以獲得更高的分辨率和更快的生產速度。